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行业新闻

PECVD技术在柔性光学膜上的应用

| CVD光学多层膜的应用


光学多层膜的需要:

● 防反射膜

● 光学调整膜(IM膜),等等


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防反射


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光学调整膜



| PECVD卷绕镀膜机


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PECVD原理图


PECVD 法的特长:

● 高速镀膜

● 低温镀膜


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Twin roller as electrodes(双电极辊)

● 没有电极被污染⇒确保长时间稳定生产

● 可有效利用原料气体

● 减低镀膜腔体的污染


高镀膜速度

● 300nm・m/min (阻隔膜镀膜条件)

● 光学膜用途可高速化


Magnetron discharge

● 用此方式可使薄膜宽度方向形成均一的等离子。

● 可在膜宽度方向不断拓宽(350~550~700~1300~)

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模式图


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放电状态


| 镀膜的要件


  1. 高折射膜和低折射膜

  2. 均一的光学膜分布

  3. 生产阶段的技术,生产性(成本)

  4. 附着力,稳定性,等等


镀膜的要件:高折射膜和低折射膜


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高折射率:SiN镀膜

● 使用研发机W35-350C(基材宽350㎜)

● SiH4:15-200ml/min+N2:150-1000ml/min


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低折射率:SiO镀膜

● 开发机W35-350C(使用基材宽度350㎜)

● HMDSO+O2


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镀膜的要件:光学膜厚均一分布(SiOx为例)


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镀膜的重点:量产阶段的技术,生产效率(成本)


1. 量产机业绩


● 1.3m宽幅量产机目前在日本2家公司使用并生产中。

● 研发机也在日本,韩国,中国的各大企业中被广泛使用。


2.镀膜成本

● 比磁控溅射快,可高速镀膜

● 化学反应

● 从原料直接转化成皮膜。

● 因不需要磁控溅射靶,所以镀膜成本低。


对镀膜成本构成感兴趣的话请另行咨询神钢。


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W35 CVD roll coater


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膜宽度方向扩张的沿革


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在日本某公司无尘室使用案例


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量产机装置的断面模式图

来源: unima薄膜新材网

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点击次数:  更新时间:2016-12-23 15:36:13  【打印此页】  【关闭

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